箱式爐根據不同的應用需求、加熱方式、溫度范圍、氣氛控制等，可以分為多種類型。以下是常見的分類方式及具體類型：

1. 按加熱方式分類

(1) 電阻加熱箱式爐

   原理：利用電阻絲（如鎳鉻合金、鐵鉻鋁合金）或硅碳棒、硅鉬棒發(fā)熱。

   特點：

     溫度范圍：300℃~1800℃（視加熱元件而定）。

     適用于大多數常規(guī)熱處理和材料燒結。

  細分類型：

     普通電阻爐：≤1200℃（常用電阻絲）。

    高溫電阻爐：1200℃~1800℃（硅鉬棒、硅碳棒）。

(2) 感應加熱箱式爐

  原理：利用電磁感應加熱工件（需導電材料）。

  特點：

     升溫快，熱效率高，但設備復雜。

     適用于金屬快速加熱、熔煉。

(3) 燃氣加熱箱式爐

   原理：通過天然氣、液化氣等燃燒加熱。

   特點：

      溫度可達1000℃以上，運行成本低，但需燃氣供應。

     多用于工業(yè)大批量生產（如陶瓷燒成）。

2. 按溫度范圍分類

類型                溫度范圍                              適用場景                    

低溫箱式爐    室溫~600℃                干燥、固化、低溫退火            

中溫箱式爐    600℃~1200℃      常見熱處理（淬火、回火）、陶瓷燒結

高溫箱式爐   1200℃~1800℃       特種陶瓷、耐火材料、金屬熔煉    

超高溫爐    >1800℃（如石墨加熱） 科研級材料合成（如碳化硅單晶）

3. 按氣氛環(huán)境分類

(1) 空氣氣氛箱式爐

   直接暴露在空氣中加熱，適用于無氧化要求的樣品（如灰分測定）。

(2) 保護氣氛箱式爐

    通入惰性氣體（N?、Ar）或還原性氣體（H?），防止樣品氧化。

  應用：金屬退火、粉末冶金。

(3) 真空箱式爐

   爐膛抽真空（可達10?3 Pa以上），隔絕氧氣。

   應用：高純材料合成、半導體工藝。

4. 按結構形式分類

(1) 普通箱式爐

   單爐膛，手動操作，經濟實用。

(2) 升降式箱式爐

   爐體可升降或平移，便于大型工件裝卸。

   應用：大型模具熱處理。

(3) 多工位箱式爐

   多個獨立加熱區(qū)，可同時處理不同工藝的樣品。

5. 按控制方式分類

     類型                                        特點                                適用場景

普通控溫型    機械儀表或簡易數顯控溫，精度較低          基礎熱處理、教學實驗     

程序控溫型  可編程多段控溫（PID調節(jié)），精度±1℃       科研、精密燒結          

智能型         聯網遠程監(jiān)控，數據記錄與分析                    工業(yè)自動化生產         

6. 按特殊用途分類

快速升溫箱式爐：升溫速率可達50℃/min以上，用于急熱實驗。

氣氛燒結爐：專為粉末冶金設計，可精確控制氧含量。

實驗馬弗爐：小型化，適合實驗室樣品預處理（如灰化、灼燒）。

選擇建議

實驗室研究：優(yōu)先考慮程序控溫型、保護氣氛或真空爐。

工業(yè)生產：根據產量選擇燃氣加熱或多工位爐。

高溫材料：需硅鉬棒或石墨加熱元件的高溫爐。

不同分類的箱式爐各有優(yōu)劣，需根據具體需求（溫度、氣氛、樣品尺寸等）綜合選擇。